Los objetivos cerámicos se utilizan en un proceso llamado Deposición de Vapor Física (PVD), que se utiliza en la producción de varias películas delgadas, incluidos dispositivos semiconductores, células solares y revestimientos ópticos. Los objetivos cerámicos están compuestos de materiales como alúmina, dióxido de titanio, zirconia y dióxido de silicio. Tienen altos puntos de fusión, bajas tasas de pulverización catódica y alta pureza, lo que los hace populares para su uso en procesos de PVD. Los objetivos de pulverización cerámica también son duraderos, químicamente estables y resistentes al calor y al desgaste, lo que los convierte en una opción ideal para muchas aplicaciones industriales.
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