Objetivo IGZO

• Alta Pureza-Asegurar procesos de deposición consistentes y confiables.

• Composición uniforme: lograr propiedades consistentes de la película durante el proceso de pulverización.

• Excelente rendimiento de pulverización catódica: permite un control preciso sobre el grosor de la película y la velocidad de deposición.

• Buena estabilidad térmica

• Compatibilidad

• Alta movilidad del portador

• Retención amorfa de la fase

• Disponible en dimensiones personalizadas

Para garantizar la entrega segura del objetivo de pulverización de óxido de zinc de galio indio al cliente, utilizaremos materiales de amortiguación y una caja exterior (para objetivos pequeños de IGZO) o una caja (para grandes objetivos IGZO) para embalaje.

Longhua Technology ofrece objetivos de pulverización IGZO personalizados adaptados a sus requisitos específicos, incluidos materiales, dimensiones y niveles de pureza. Envíanos tus consultas. Para obtener presupuestos más rápidos, proporcione detalles como el material, el tamaño, la pureza y la cantidad en su consulta.

Los OBJETIVOS DE IGZO (óxido de indio-galio-zinc) se utilizan en procesos de deposición por pulverización para crear películas delgadas de óxidos conductores transparentes (TCO) que exhiben excelentes propiedades eléctricas y ópticas. Durante la deposición por pulverización, los iones cargados positivamente, como el argón, se aceleran hacia el objetivo IGZO cargado negativamente. Este bombardeo de iones expulsa átomos de la superficie objetivo, que luego se depositan sobre un sustrato para formar una película delgada.

Las propiedades del material de Indio, galio y óxido de zinc del objetivo de IGZO permiten la formación de películas delgadas de alta calidad con un rendimiento electrónico mejorado. La presencia de galio en el objetivo de IGZO permite una mayor movilidad de los electrones, mientras que el zinc ayuda a estabilizar la estructura cristalina y reducir los defectos de la red. Estas propiedades hacen que los objetivos de IGZO sean una opción popular para crear transistores de película delgada (TFT), como los que se encuentran en pantallas LCD y pantallas táctiles, debido a su alta conductividad eléctrica, transparencia, y bajo consumo de energía.

En general, el principio de funcionamiento de los objetivos de IGZO implica el uso de tecnología de deposición por pulverización para crear películas delgadas de TCO de alta calidad con propiedades eléctricas y ópticas excepcionales, lo que las convierte en un componente valioso en dispositivos electrónicos.

La producción de los objetivos de IGZO enfrenta varios desafíos, incluida la complejidad del proceso de fabricación y los altos costos asociados con el uso de Indio, galio y zinc. Además, la disponibilidad de polvo IGZO de alta calidad adecuado para la fabricación objetivo puede ser limitada, aumentando aún más los costes de producción.

Sin embargo, a pesar de estos desafíos, existen varias oportunidades para un mayor desarrollo e innovación en el campo. Una oportunidad significativa es la investigación en curso sobre posibles materiales alternativos que pueden reemplazar o reducir el uso de Indio, galio y zinc en los objetivos de IGZO. Otras oportunidades incluyen la optimización de procesos de fabricación y sinterización de objetivos para reducir costos y aumentar la eficiencia.

Además, a medida que la demanda de dispositivos electrónicos como pantallas LCD, OLED y pantallas táctiles continúa creciendo, se espera que el mercado de objetivos IGZO vea una demanda sostenida. Para satisfacer esta demanda, los actores de la industria están buscando colaboraciones y asociaciones para mejorar la producción y reducir los costos.

En conclusión, si bien la fabricación de los objetivos de IGZO enfrenta desafíos, las oportunidades de investigación, desarrollo y colaboración continúan impulsando el progreso en este campo, con el potencial de impactar significativamente la industria electrónica.