Los objetivos de pulverización de metal son componentes críticos del proceso de pulverización utilizada en la fabricación de películas delgadas para semiconductores y otras aplicaciones avanzadas. Estos objetivos son metales o aleaciones de alta pureza con composiciones químicas específicas, y están sujetos a bombardeo físico por gas ionizado para generar películas delgadas mediante un proceso llamado pulverización. El material saltado del objetivo se deposita con precisión sobre el sustrato para producir películas delgadas necesarias para diversas aplicaciones industriales, incluida la electrónica, la óptica y el almacenamiento magnético, entre otras. Los objetivos de pulverización de metal juegan un papel esencial en la producción de dispositivos electrónicos de alto rendimiento y otras aplicaciones tecnológicas avanzadas.
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