Los requisitos para los objetivos de molibdeno son significativamente más estrictos que los de las industrias de materiales convencionales. Estos requisitos implican aspectos que incluyen tamaño, planitud, pureza, contenido de impurezas, densidad, niveles de N/O/C/S, tamaño de grano y control de defectos. Los requisitos aún más rigurosos o especializados incluyen rugosidad de la superficie, valores de resistencia, uniformidad del tamaño del grano, composición y microestructura, contenido y tamaño de materia extraña (óxido), permeabilidad magnética, densidad ultra alta, granos ultrafinos, entre otros.
El recubrimiento de pulverización de magnetrón es una técnica de deposición física de vapor recientemente desarrollada que utiliza un sistema de pistola de electrones para enfocar y emitir electrones sobre el material chapado. Siguiendo el principio de intercambio de momentos, los átomos se expulsan de la superficie objetivo con alta energía cinética y se depositan en el sustrato para formar una película. El material utilizado para el proceso de Enchapado se llama objetivo de pulverización catódica, que puede estar hecho de diferentes materiales como metales, aleaciones y compuestos cerámicos.
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